
在近日举行的 2025 年英特尔代工大会上,英特尔展示了其 2.5D 先进封装技术 EMIB(嵌入式多芯片互连桥接)的最新进展。这一系列技术更新包括全新变种 EMIB-T,以及采用 RDL(重布线层)与 Bridge(桥片)结构的 Foveros-R 和 Foveros-B 封装方案。
据现场发布的资料及拍摄内容显示,EMIB-T 中的“T”应代表 TSV(硅通孔)。这项新技术为高带宽内存 HBM4 和 UCIe 芯片集成提供了解决方案,通过在封装基板中引入 TSV 与 M Bridge 实现垂直供电通道,改变了传统路径中信号绕行的设计局限,从而有效降低直流与交流电噪声,提升传输稳定性。
英特尔强调,EMIB-T 支持从其它 2.5D 封装技术平滑迁移,且迁移过程中无需进行大幅重新设计,有助于降低开发难度和成本。
此外,英特尔还展望了未来 EMIB 技术的发展蓝图。预计至 2026 年,新方案将借助超过 20 个 EMIB 桥实现约 120mm×120mm 的封装尺寸,并支持多达 12 个 HBM 内存堆栈。到 2028 年,封装面积有望进一步拓展至 120mm×180mm,可容纳超过 24 个 HBM 堆栈,为高性能计算提供更加强劲的支持能力。
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