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    不需要EUV光刻机：铠侠开发NIL半导体工艺

      [  中关村在线 原创  ]   作者：淼淼小鬼
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    diy.zol.com.cn true https://diy.zol.com.cn/779/7791605.html report 1196 芯研所10月23日消息，日本铠侠公司联合伙伴开发了新的工艺，可以不使用EUV光刻机，工艺直达5nm。据日媒报导，铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，铠...
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