近日，全球领先的半导体大厂三星正式宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
据介绍，三星7LPP、6LPP工艺主要生产先进的移动SoC芯片，本季度内陆续出货，具体客户均未披露，不过看起来7LPP会是对外代工主力，6LPP则可能是三星自用，或者仅限特定客户。
按照三星的说法，6LPP相比于7LPP可将晶体管密度增加约10％，并降低功耗，但彼此互相兼容，针对7LPP工艺设计的IP可以直接复用，从而大大降低成本。
在路线图上，三星还规划了5LPE、4LPE、3GAE、3GAP等更先进的工艺，都会使用EUV极紫外光刻，其中5nm、4nm都可以算作7nm工艺的深度升级，3nm则是全新设计。
高通刚刚发布的第三代5G基带骁龙X60就采用三星5nm工艺制造，3nm则会在今年完成开发，放弃使用多年的FinFET晶体管架构。
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