韩国半导体产业协会成立30周年庆典在首尔举行。 会议期间,SK海力士CEO李锡熙(李锡熙)在与媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂。
对于EUV光刻机进厂可能出现的延迟,李锡熙表示正在与美国合作,进展顺利。 EUV光刻技术已经应用于韩国本土DRAM生产线,中国工厂还有充足的时间进行调解和沟通。
有消息称,SK海力士将生产基于EUV光刻机的10nm DRAM芯片,这是第四代内存。无锡工厂也计划应用相关技术,目前正在寻求多种方法来克服困难。
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