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    台积电5nm制程良率超80%:进展神速

      [  中关村在线 原创  ]   作者:霍杰华   |  责编:杨勇

        半导体代工方面,中国台湾的台积电在全球范围内有着极其重要的影响力,并且有着极其明显的优势。在5纳米制程方面,对台积电来说是一个重要的制程节点,其中将分为N5、N5P两个版本。N5相较于当前N7的7纳米制程,性能要再提升15%、功耗降低30%。N5P则将在N5的基础上再将性能提升7%、功耗降低15%。

    台积电5nm制程良率超80%:进展神速

        据悉,台积电的5纳米将使用第五代FinFET技术,EUV极紫外光刻技术也提升到10多个光刻层,整体density提升84%。换句话说,以7纳米是每平方公厘9627万个电晶体计算,则5纳米就将是每平方公里有1.771亿个电晶体。

        同时,台积电强调,目前5纳米制程正在进行风险试产阶段,而测试芯片的良率平均已达80%,最高良率可超过90%,只是,相对来说,这些测试芯片的架构相对简单,要真的生产移动或个人电脑处理器芯片上,目前良率可能还有些差距。不过,台积电目前并没有公开正式数据。

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    diy.zol.com.cn true //diy.zol.com.cn/734/7348491.html report 830     半导体代工方面,中国台湾的台积电在全球范围内有着极其重要的影响力,并且有着极其明显的优势。在5纳米制程方面,对台积电来说是一个重要的制程节点,其中将分为N5、N5P两个版本。N5相较于当前N7的7纳米制程,性能要再提升15%、功耗降低30%。N5P则将在N5...
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